1）飛秒級脈寬；
2）1030／515／343nm 三種波長；
3）mJ級單脈衝能量；
4）近衍射極限光束品質；
5）穩定性高、可靠性高。
1）切割、鑽孔和劃線（玻璃、矽、陶瓷、晶圓、柔性電路）；
2）薄膜圖案（金屬、薄膜太陽能電池）；
3）打標（玻璃、矽、陶瓷、金屬、塑料）。
設備型號 | Hyfast 20 | ||
型號 | IR | GRN | UV |
中心波長nm | 1030±3 | 515±3 | 343±3 |
脈寬fs | 500-3000 （可客製） | ||
最大平均功率W | 20 | 10 | 3 |
重複頻率kHz | 25-3000（可調） | 800-3000 （可調） | 800-3000 （可調） |
最大單脈衝能量μJ | 200 | 13 | 4 |
光束品質 M² | ≤1.3 | ||
光斑圓度% | ≥90 | ||
光斑直徑mm | 1-2 (1/e²) | ||
脈衝串 | 1-20 | ||
偏振態 | 線偏振（水平／垂直可選） | ||
發散角mard | ≤1 | ||
功率穩定性% | ≤1 RMS/24h | ||
能量穩定性% | ≤1 RMS/24h | ||
雷射器冷卻要求 ℃ | 20.5±0.1蒸餾水 | ||
指向性 | ＜35μrad/℃ | ||
工作模式 | 內控；分頻；外控：Trigger／Gate | ||
環境溫度 | 17-27 ℃ | ||
環境濕度 | ＜60 % 非冷凝 | ||
設備型號 | Hyfast 50 | ||
型號 | IR | GRN | UV |
中心波長nm | 1030±3 | 515±3 | 343±3 |
脈寬fs | 500-3000（可客製） | ||
最大平均功率W | 50 | 20 | 10 |
重複頻率kHz | 50-3000 （可調） | 800-3000 （可調） | 800-3000 （可調） |
最大單脈衝能量μJ | 1000 | 25 | 13 |
光束品質 M² | ≤1.3 | ||
光斑圓度% | ≥90 | ||
光斑直徑mm | 1.5-3.5 （1/e²） | ||
脈衝串 | 1-20 | ||
偏振態 | 線偏振（水平／垂直可選） | ||
發散角mard | ≤1 | ||
功率穩定性% | ≤1 RMS/24h | ||
能量穩定性% | ≤1 RMS/24h | ||
雷射器冷卻要求 ℃ | 20.5±0.1℃ 蒸餾水 | ||
指向性 | ＜35μrad/℃ | ||
工作模式 | 內控；分頻；外控：Trigger／Gate | ||
環境溫度 | 17-27 ℃ | ||
環境濕度 | ＜60% （非冷凝） | ||
設備型號 | Hyfast 100 | ||
型號 | IR | GRN | UV |
中心波長nm | 1030±3 | 515±3 | 343±3 |
脈寬fs | 500-3000（可客製） | ||
最大平均功率W | 150 | 55 | 30 |
重複頻率kHz | 100-3000 （可調） | 800-3000 （可調） | 800-3000 （可調） |
最大單脈衝能量μJ | 1000 | 68 | 38 |
光束品質 M² | ≤1.3 | ||
光斑圓度 | ≥90 % | ||
光斑直徑 | 3-5 mm （1/e²） | ||
脈衝串 | 1-20 | ||
偏振態 | 線偏振（水平／垂直可選） | ||
發散角 | ≤1 mard | ||
功率穩定性 | ≤1 % RMS/24h | ||
能量穩定性 | ≤1 % RMS/24h | ||
雷射器冷卻要求 | 20.5±0.1 ℃蒸餾水 | ||
指向性 | ＜35μrad/℃ | ||
工作模式 | 內控；分頻；外控：Trigger／Gate | ||
環境溫度 | 17-27 ℃ | ||
環境濕度 | ＜60% 非冷凝 | ||
