機型 | PECVD |
沉積薄膜種類 | AlO,SiO,SiON,SiN,SiC |
批次裝載量 | 768pcs/批（182mm）、616pcs/批（210mm）、500pcs/批（230mm） |
氧化鋁薄膜厚度均勻性 | 片內≤6% 片間≤6% 批間≤5%（182mm 晶圓） |
氧化鋁折射率 | 1.65(±0.05) |
設備可用率 | ≥98% |
工作溫度範圍 | 100~600℃ |
溫度控制 | 9 點溫控，內／外雙模式控制 |
加熱方式 | 自動升溫，具快速恆溫功能 |
冷卻方式 | 最新專利技術，9 區分段主動冷卻爐體 |
恆溫區精度與長度 | ±2°C/3200mm(500°C) |
單點溫度穩定性 | <±1°C/4h(500°C) |
升溫時間 | RT→450℃≤45min |
溫度控制 | 雙模式精密控制 |
系統極限真空 | <3Pa |
系統漏率 | 停泵關閥後壓升率<1Pa/min |
壓力控制方式 | 快速調整全自動閉迴路 |
製程控制方式 | 全自動製程控制，具多重安全聯鎖警報 |
人機介面 | LCD 顯示、觸控操作、配方編輯、線上監控、權限管理、班別管理、聯網功能 |
MES/CCRM | 支援 |
