紫外奈秒雷射

設備特性

1.重複頻率可調;

2.模組化設計;

3.TEM00模式輸出;

4.平均功率高,最高達到30W。


應用領域

憑藉獨特的「冷加工」熱影響區極小的優勢,在高端製造領域的非金屬脆性材料中實現超高精密加工和微結構製作,廣泛應用於3C行業,尤其是手機產業鏈的各關鍵流程中。目前發機量已超過15000台,在同類雷射的市場佔有率方面處於領先地位。


應用範圍:

1.PCB、FPC板標記、分板、切割和鑽孔;

2.矽晶圓片微孔、盲孔加工;

3.太陽能電池工藝;

4.矽片劃刻;

5.陶瓷劃刻、切割和鑽孔;

6.去油墨、去PVD層;

7.材料表面標記。



技術規格表

設備型號

HL-NS-355-5/10/15

HL-NS-355-20

波長

355nm

功率

5W/10W/15W

20W

重複頻率

10-200 kHz

60-400khz

脈寬

10-100ns

20-100ns

脈衝穩定性

<3%rms,1σ

<3%rms,1σ值

空間模式

TEM00

M2

<1.3

偏振度

 100:1水平

光斑直徑

1.1 mm ±0.1mm

1.4mm ±0.2mm

發散全角

 <2 mrad

光斑對稱性

  >90%

光束指向性

<± 25 µrad/°C

電源要求

100-240V,50 -60Hz

就緒時間

待機到就緒<10分鐘;冷啟動到就緒<30分鐘

溫度範圍

工作時18~35°C;非工作時0~50°C

濕度

10–90%,無結露

冷卻需求

水冷,冷水機精度 ±0.1°C,流量至少6L/分鐘

總耗熱

<1000 W

雷射頭尺寸(L × W × H)

500mm×230.5mm×132mm

雷射頭重量

18kg

控制器尺寸(L × W × H)

477 mm× 440mm × 177mm

控制器重量                                          

21kg


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